分辨率达到 0.85 μm (L/S)
世界首款亚微米分辨率FPD曝光设备“FX-6ASLH”开始接受预订

2026年10月26日

尼康公司FPD曝光设备中世界首款*1可实现0.85 μm*2*3 (L/S*4)的亚微米分辨率的FPD曝光设备【FX-6ASLH】开始接受订单。本产品适用于第六代玻璃基板*5,是用于制造先端智能设备的高精细有机EL和液晶面板的最匹配的曝光设备.


*1 基于截至 2026 年 10 月 26 日公布的 FPD曝光设备。(根据尼康调查)

*2 1 µm(微米)是百万分之一米(千分之一毫米)。

*3 使用相位差掩模和化学增幅型光刻胶可实现 0.85 μm 的分辨率。

*4 是 Line and Space 的缩写。是指配线的宽度和相邻配线之间的间距。

*5 适用于中小尺寸面板,尺寸为 1,500 mm x 1,850 mm的玻璃基板。

发售概要

产品名称FPD曝光设备“FX-6ASLH”
上市日期2027年12月

开发背景

着眼于未来先端的智能设备会更加需求高分辨率和高功能化,适用于中小尺寸面板的第6代玻璃基板的FPD曝光设备会需要达到小于1.0 μm(L/S)的分辨率。所以,尼康全新开发出世界首款可以达到0.85 μm高分辨率的FPD曝光设备。

主要特点

1.   分辨率达到 0.85 μm (L/S)

通过搭载UV-LED光源的全新研发照明光学系统,实现了第6代玻璃尺寸下0.85µm (L/S) 和1.0µm (C/H*6) 的分辨率。这种亚微米级分辨率在FPD曝光设备中属于世界首次。即使在容易变形的大尺寸基板中,也能在实时对焦的同时进行补正,实现整个基板均匀的线宽曝光。

*6 Contact Hole的缩写。用于连接上下层的电气的孔的大小。

2.   重合精度达到±0.18 μm以下

构成组合式镜头投影系统*7中的每个镜头在基于基板的状态进行精密控制的同时,设备内部的环境得到合理管理,从而实现了第6代玻璃尺寸的最高水平*8±0.18µm以下的重合精度。从而对达成高良率的量产工艺做出贡献。

*7把复数的投影镜头并联在一起并进行精密控制,使其可以当作一枚巨大的投影镜头使用,这是尼康独有的技术。该技术使得单次大范围的图案曝光成为可能。

*8 基于截至2026年10月26日公布的FPD曝光设备。(根据尼康调查)

3.   通过采用UV-LED光源同时实现高分辨率和高生产率

通过采用高照度的UV-LED光源,实现了亚微米分辨率和高生产率,发挥优异的生产性能。

主要特点

分辨率0.85 µm L/S*3,1.0 µm C/H
光源UV-LED i-line相当
投影倍率1:1
重合精度≦± 0.18 μm
尺寸1,500 mm × 1,850 mm
节拍39 秒/plate (条件)1500 mm × 1850 mm,4 scan,i-line相当,30 mJ/cm²

●尼康官网                                                           https://www.jp.nikon.com/

●尼康半导体・FPD产品与服务官网

https://www.jp.nikon.com/business/products-and-services/fpd-lithography/systems

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