尼康开发新型对准站“锐布Litho Booster 1000”

实现半导体3D结构中“晶圆对晶圆键合”工序的高套刻精度

锐布 Litho Booster 1000

尼康株式会社正在加速推进其最新一代对准站“锐布 Litho Booster 1000”的开发工作。该设备能够在曝光工艺前对晶圆进行高精度测量，并将补正值前馈给光刻机，从而大幅提升套刻精度。“锐布 Litho Booster 1000”计划于2026年下半年正式上市。此外，对准站是一种可兼容尼康及其他厂商光刻机的装置。自2018年以来，尼康已将该类产品推向市场。

近年来，除CMOS图像传感器外，逻辑器件和NAND闪存等半导体产品也纷纷引入利用垂直空间的3D结构，预计未来DRAM同样将采用这一先进架构。在利用多台光刻机进行多层结构曝光的制造工艺中，尤其是在晶圆对晶圆键合环节，晶圆极易发生形变或位移现象。随着行业对更高精度、更高密度测量的需求不断增长，如何精准测量这些形变与位移，已成为推动半导体制造技术进步的重要课题。

“锐布Litho Booster 1000”在保持高生产效率的同时，通过实现更高精度的多点及绝对值测量，进一步提升了半导体制造工艺中的良率。值得一提的是，本项目的部分成果得益于日本新能源产业技术综合开发机构（NEDO）的委托研发支持。