满足各种工艺要求
既能与现有设备兼容,又能满足各种工艺要求的曝光设备。
NSR-2205iL1 i线步进式光刻机,可与各种半导体器件配合使用。该设备性价比优异,对晶圆材质的包容性强,能为各种半导体器件的高效率生产做出贡献。它与尼康现有的i线步进式光刻系统高度兼容,是既有的理想替代产品。
NSR-2205iL1 i线步进式光刻机,可与各种半导体器件配合使用。该设备性价比优异,对晶圆材质的包容性强,能为各种半导体器件的高效率生产做出贡献。它与尼康现有的i线步进式光刻系统高度兼容,是既有的理想替代产品。
2023年8月31日公布新品信息
缩小投影倍率5倍i线步进式光刻机
应对多样化需求实现高性价比
与尼康既有设备的高兼容性
为长期使用而设计的设备
应对功率半导体、通信用半导体,MEMS等
各种器件
产品定位图
正在使用尼康的i线曝光设备的客户,可以继续使用所持有的资产(mask、recipes等)
我们继续支持客户的生产活动,致力成为客户的合作伙伴。
分辨率 | ≦ 350 nm※1 |
---|---|
NA | 0.45 |
曝光光源 | i-line (365 nm wavelength) |
缩小倍率 | 1:5 |
最大曝光范围 | 22 mm × 22 mm |
重合精度 | SMO※2: ≦ 70 nm※1 |
主要特征 |
|
※1 option选项
※2 SMO (Single Machine Overlay):同一型号机器之间的重合精度
如有关于缩小投影倍率5倍i线步进式光刻机「NSR-2205iL1」的相关疑问,请与我们联系。